Hej!
D3の柳です。
2026年9月8日から9月11日にかけて、スウェーデンのヴェステロースで開催されたIEEE ETFA2026についてご報告いたします。
The IEEE International Conference on Emerging Technologies and Factory Automation（ETFA）は今年で第31回を迎える、工場オートメーション分野において長い歴史を持つ国際会議です。大学の研究者だけでなく、ABBやSiemensなど企業の技術者も多く参加しており、産業用AI、デジタルツイン、人と機械の協働など、「研究を現場でどう動かすか」に重点を置いた議論が活発に行われます。開催地のヴェステロースはABB発祥の地でもあり、街全体が産業オートメーションの歴史とともに歩んできた場所でした。
私は「Industrial Validation of Generative Domain Adaptation for Cross-Fabric Defect Detection」というタイトルで口頭発表を行いました。また今回は、自分の発表セッション（Machine Vision and AI for Quality Inspection）のSession Chairも務めさせていただきました。欧州各国からの5件の発表の司会進行と質疑のとりまとめを英語で行うのは緊張しましたが、自分の研究テーマと近い発表内容を俯瞰的に聴くことができ、大変貴重な経験となりました。
Conference Banquetは、ヴェステロースの隣町エスキルストゥーナにある産業博物館Munktell Museumで開催されました。スウェーデン最初期の蒸気機関や産業機械に囲まれながらの晩餐は、工場オートメーションの学会にふさわしい、忘れがたい雰囲気でした。また、北欧の初秋は朝晩10℃を下回る日もありましたが、ストックホルムの旧市街や地下鉄駅のアートなど、街の美しさも堪能することができました。
今回の学会参加は、加藤先生をはじめ、Gu先生、佐久間先生の日々のご指導ご鞭撻と、送り出していただいたご支援、そして公益財団法人スズキ財団の研究者海外研修助成があって実現したものです。この場を借りて深く感謝申し上げます。